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日本開發(fā)新技術(shù):尼龍原料可在常溫下高選擇性合成  

2018年09月13日16:18  來源:科技日報
 
原標題:尼龍原料可在常溫下高選擇性合成

日本產(chǎn)業(yè)技術(shù)綜合研究所新開發(fā)了一項技術(shù),通過半導(dǎo)體光電極,能在常溫常壓下以約99%的高選擇性合成尼龍等的原料KA油(環(huán)己酮+環(huán)己醇)。此次開發(fā)的技術(shù)利用太陽能和微弱的電能,即可合成具備高附加值的化學(xué)材料。

半導(dǎo)體光電極是在板狀和膜狀半導(dǎo)體上連接導(dǎo)線的電極,通過光照進行氧化還原反應(yīng)。研究人員將制作好的半導(dǎo)體光電極和對電極放入單室型反應(yīng)容器中,利用含環(huán)己烷和硝酸的反應(yīng)溶液,在含氧狀態(tài)下向光電極照射模擬太陽光,生成了KA油。僅照射模擬太陽光就能發(fā)生微弱的反應(yīng),加載外部電壓后,可使生成速度提高達6倍左右。另外,他們制作的氧化鎢半導(dǎo)體光電極狀態(tài)穩(wěn)定,重復(fù)利用也不會出現(xiàn)劣化問題。

(責編:許文金、陳建軍)